璞璘科技纳米压印实现光芯片DUV量产替代 成本降至DUV的1/10

格隆汇6月7日｜璞璘科技6月5日发布消息称，公司与深圳力策合作采用真空气压式纳米压印方案实现8英寸光芯片量产突破：依托璞璘科技自主研发的PL-AS真空气压式晶圆级纳米压印光刻设备，配合定制化双层压印胶材料体系与核心工艺，完全绕开深紫外(DUV)光刻路线，成功实现8英寸光芯片晶圆可规模化量产，并将芯片制造成本压缩至传统DUV方案的十分之一。据悉，纳米压印不用光学曝光，靠“纳米印章”物理压印复刻纳米图案，具有超高分辨率、易量产、低成本、一致性高的技术优点，被认为是目前光刻技术替代方案之一。