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广发证券:玻璃基板成AI封装新宠 射频IPD与CPO应用前景加速兑现

   时间:2026-06-08 12:45 作者:格隆汇

随着人工智能算力需求持续攀升,高端GPU、ASIC芯片及HBM存储器正加速向高带宽、高集成度方向迭代,推动先进封装技术从后道制造环节升级为系统性能优化的核心平台。在这一背景下,玻璃材料凭借其独特的物理特性,正逐步成为大尺寸先进封装载板领域的候选材料,其产业化进程已进入关键验证阶段。

传统封装方案面临双重挑战:硅中介层受制于光刻机曝光面积限制、12英寸晶圆排布效率瓶颈以及成本良率约束,继续扩大尺寸的难度显著增加;而有机封装基板在高频信号传输、大尺寸封装热管理以及翘曲控制等方面的缺陷日益凸显。相比之下,玻璃材料具有高平整度、热膨胀系数可调、介电损耗低等优势,其尺寸稳定性与矩形面板加工适配性更契合AI/HPC领域对大尺寸封装的需求。

国际半导体巨头已率先布局玻璃基板技术。英特尔计划于2026年1月推出全球首款采用玻璃芯载板的商用CPU,该产品将验证玻璃材料在量产级封装中的可行性;台积电的CoPoS技术已完成可行性研究,预计2028-2029年进入产能爬坡阶段,标志着玻璃基板从概念验证转向产业落地。这两项突破为玻璃基板在先进封装供应链中的定位提供了关键支撑。

在应用场景方面,射频集成无源器件(IPD)与共封装光学(CPO)成为玻璃基板最先突破的领域。玻璃材料的高绝缘性、低损耗特性使其成为高频IPD的理想衬底,云天半导体、3DGS等企业已实现量产并在通信设备中完成可靠性验证。CPO领域则呈现分阶段演进趋势:短期聚焦玻璃基电互连载板,长期将向光波导与光电集成方向延伸,形成从电信号传输到光信号处理的完整解决方案。

技术瓶颈集中于玻璃原片制备与TGV(玻璃通孔)工艺。原片质量直接影响封装层的平整度与热匹配性能,需控制厚度均匀性在微米级并实现超低缺陷率;TGV技术作为实现三维互连的关键,其成孔精度、孔壁金属化质量及铜填充密度决定着信号传输效率。当前半导体级玻璃基板制造需整合原片制备、垂直导通、表面金属化等七大核心工序,技术复杂度远超传统封装基板。

产业链布局呈现差异化竞争态势。原片环节由康宁、肖特等国际企业主导,国内旗滨集团、凯盛科技等通过特种玻璃研发形成技术积累;精加工领域,沃格光电、京东方A等企业已建成试验线并完成客户送样,重点突破TGV成孔与面板级制程技术;辅材方面,天承科技等材料供应商进入客户验证阶段,其开发的特种介质材料可满足玻璃基板高温制程需求。三环节协同推进,共同构建玻璃基板生态体系。

投资机构建议关注两条主线:原片领域重点布局具备国产替代能力的旗滨集团、戈碧迦等企业,其产品已通过头部客户技术认证;精加工与辅材环节优先选择掌握TGV、镀铜等核心工艺的沃格光电、天承科技等标的,这些企业有望在产业验证阶段率先获得订单突破。需警惕技术迭代放缓、客户验证周期延长等潜在风险对产业化节奏的影响。

 
 
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